青島育豪微電子設備有限公司

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主營：擴散爐系列,真空爐系列,鏈式隧道爐系列,氫氣爐系列,砷化鎵單晶爐系列,LED專用設備,太陽能光伏擴散爐,磁性材料專用設備

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LPCVD化學相沉積設備

價格

電議 元/臺

  • 單價：電議
  • 最小起訂量： 1臺
  • 所在地：山東 青島
  • 供貨總量： 10臺
  • 發(fā)布時間：2016-09-24

聯系方式

產品描述

用途：用于半導體器件工藝中氮化硅、二氧化硅、多晶硅的薄膜制備
特點：一次設定自動完成，可另配氣柜。真空系統可選配進口機組
主要技術指標：制備3-4吋氮化硅、多晶硅和二氧化硅薄膜；溫度：400~900℃；
  恒溫區(qū)600mm±0.5℃；真空系統機械泵+羅茨泵，配有抽氣冷井；
  控溫器采用進口5吋觸摸屏；通入氣體SIH4/NH3/N2;
  進口質量流量計控制；閥門用進口氣動閥和減壓閥；動作順序為PLC編程控制；
  薄膜壓力控制器加閥閉環(huán)控制壓強

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  • 青島育豪微電子設備有限公司
  • 經營模式：制造商
  • 主營：擴散爐系列,真空爐系列,鏈式隧道爐系列,氫氣爐系列,砷化鎵單晶爐系列,LED專用設備,太陽能光伏擴散爐,磁性材料專用設備
  • 地區(qū)：山東 青島
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