產(chǎn)品描述
TF1200-PECVD型等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
產(chǎn)品簡介：此款設(shè)備配有Plasma實現(xiàn)等離子增強(qiáng)，滑軌式設(shè)計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)裝置，可準(zhǔn)確的控制反應(yīng)腔體內(nèi)部的氣體壓力，帶刻度的調(diào)節(jié)閥對于做低壓CVD非常簡單實用，工藝重復(fù)性好，對于石墨烯生長工藝非常合適，也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。
主要功能和特點(diǎn)：
1、利用輝光放電產(chǎn)生等離子體電子激活氣相；
2、提高了氣相反應(yīng)的沉積速率、成膜質(zhì)量；
3、可通過調(diào)整射頻電源頻率來控制沉積速率；
4、能廣泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。
滑軌管式爐技術(shù)參數(shù) | |||||
| 石英管尺寸 | L1400mm Φ（60、80、100） | |||
加熱元件 | 摻鉬鐵鉻鋁合金電阻絲 | ||||
測溫元件 | K型熱電偶 | ||||
加熱區(qū)長度 | 410mm | ||||
恒溫區(qū)長度 | 200mm | ||||
工作溫度 | ≤1100℃ | ||||
控溫模式 | 模糊PID控制和自整定調(diào)節(jié)，智能化30段可編程控制，具有超溫和斷偶啟動緊急信號功能 | ||||
控溫精度 | ?1℃ | ||||
升溫速率 | ≤20℃/min | ||||
電功率 | AC220V/50HZ/3KW | ||||
質(zhì)量供氣系統(tǒng)技術(shù)參數(shù) | |||||
| 外形尺寸 | 600x600x600mm | |||
標(biāo)準(zhǔn)量程 | 50sccm（CH4）、200sccm（H2）、500sccm（Ar、N2）； | ||||
壓力表測量范圍 | -0.1Mpa～0.15Mpa | ||||
較限壓力 | 3MPa | ||||
針閥 | 316不銹鋼 | ||||
截止閥 | Φ6mm 316不銹鋼針閥 | ||||
電功率 | AC220V/50HZ/20W | ||||
響應(yīng)時間 | 氣特性：1～4 Sec，電特性：10 Sec | ||||
準(zhǔn)確度 | ?1.5% | ||||
線性 | ?0.5～1.5% | ||||
重復(fù)精度 | ?0.2% | ||||
接口 | Φ6,1/4'' | ||||
真空系統(tǒng)技術(shù)參數(shù) | |||||
| 外型尺寸 | 600?600?600mm | |||
工作電電壓 | 220V?10% 50~60HZ | ||||
功率 | 400W | ||||
抽氣速率 | 4L\s | ||||
較限真空 | 4X10-2Pa | ||||
實驗真空度 | 1.0X10-1Pa | ||||
容油量 | 1.1L | ||||
進(jìn)氣口口徑 | KF25 | ||||
排氣口口徑 | KF25 | ||||
轉(zhuǎn)速 | 1450rpm | ||||
射頻電源 | |||||
| 信號頻率 | 13.56 MHz?0.005% | |||
功率輸出范圍 | 3W-300W 5W-500W可選 | ||||
非常大反射功率 | 200W | ||||
射頻輸出接口 | 50 Ω, N-type, female | ||||
功率穩(wěn)定度 | ?0.1% | ||||
諧波分量 | ≤-50dbc | ||||
供電電壓 | 單相交流（187V-253V） 頻率50/60HZ | ||||
整機(jī)效率 | >=70% | ||||
功率因素 | >=90% | ||||
冷卻方式 | 強(qiáng)制風(fēng)冷 | ||||
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