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伯東代理 KRI 射頻離子源 RFKRI射頻離子源RFICP系列上海伯東美國KRI射頻離子源RFICP系列,無需燈絲提供高能量,低濃度的離子束,通過柵極控制離子束的能量和方向,單次工藝時間更長!射頻源RFICP系列提供完整的套裝,套裝包含離子源本體,電子供應器,中和器,自動控制器等.射頻離子源適
2023-12-14 /個 -
伯東代理 KRI 考夫曼離子源美國KRI考夫曼離子源GriddedKDC系列上海伯東國外進口進口考夫曼離子源KDC系列,加熱燈絲產生電子,是典型的考夫曼型離子源,增強設計輸出高質量,穩(wěn)定的電子流.美國KRI考夫曼公司新升級GriddedKDC系列離子源,新的特性包含自對準離子光學和開關
2023-12-14 /個 -
伯東代理KRI 霍爾離子源 eH美國KRI霍爾離子源GridlesseH系列美國KRI霍爾離子源eH系列緊湊設計,高電流低能量寬束型離子源,提供原子等級的細微加工能力,霍爾離子源eH可以有效地以納米精度來處理薄膜及表面,多種型號滿足科研及工業(yè),半導體應用.霍爾離子源高電流提高鍍膜沉積速率,低能量
2023-12-14 /個 -
KRi 射頻離子源 RFICP 220因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。KRi射頻離子源RFICP220上海伯東代理國外進口進口KRI射頻離子源RFICP220高能量柵極離子源,適用于離子濺鍍,離子沉積和離子蝕刻.在離子束濺射工藝中,射頻離子源RFICP220配有
2023-12-14 /個 -
KRi 射頻離子源 RFICP 380因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。大口徑射頻離子源RFICP380上海伯東美國KRI大口徑射頻離子源RFICP380,3層柵極設計,柵極口徑38cm,提供離子動能100-1200eV寬束離子束,套裝包含離子源本體和電源控制
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KRI 霍爾離子源 eH 400因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。美國KRI霍爾離子源eH400上海伯東代理國外進口進口KRI霍爾離子源eH400低成本設計提供高離子電流,霍爾離子源eH400尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng),可以控制較低的離子能量,通
2023-12-14 /個 -
KRI 霍爾離子源 eH 1000因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。KRI霍爾離子源eH1000上海伯東代理國外進口進口KRI霍爾離子源eH1000**氣體利用,低成本設計提供高離子電流,特別適合中型真空系統(tǒng).通常應用于離子輔助鍍膜,預清洗和低能量離子蝕刻.尺寸
2023-12-14 /個 -
KRi 射頻離子源 RFICP 100因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。KRI射頻離子源RFICP100上海伯東代理國外進口進口KRI考夫曼型離子源RFICP100緊湊設計,適用于離子濺鍍和離子蝕刻.小尺寸設計但是可以輸出>400mA離子流.考夫曼型離子源RF
2023-12-14 /個 -
KRI 考夫曼離子源 KDC 75因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。KRI考夫曼離子源KDC75上海伯東代理國外進口進口KRI考夫曼離子源KDC75:緊湊柵極離子源,離子束直徑14cm,可安裝在8“CF法蘭.適用于中小型腔內,考夫曼離子源KDC75包含
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KRi 射頻離子源 RFICP 40因產品配置不同，價格貨期需要電議，圖片僅供參考，一切以實際成交合同為準。KRI射頻離子源RFICP40上海伯東代理國外進口進口KRI射頻離子源RFICP40:目前KRI射頻離子源RFICP系列尺寸較小,低成本**離子源.適用于集成在小型的真空腔體內.離子源RFIC
2023-12-14 /個