設備簡介:該設備為我司研發(fā)用于石墨烯薄膜連續(xù)生長或者線性材料的連續(xù)的專項使用設備,此款設備是快速冷卻卷對卷CVD連續(xù)生長爐,它由高溫生長腔體,三路質量流量計氣路系統(tǒng),真空機組,石英管,冷卻裝置,收放卷的密封裝置,自動化控制系統(tǒng)組成,兩端分別安裝有進料進氣真空腔室和出料排氣真空腔室(即收放銅箔
2023-09-12 0/臺
主要特點一、智能型雙溫區(qū)等離子化學氣相沉積系統(tǒng)設備的高溫真空電阻爐溫度控制系統(tǒng)采用經典的閉環(huán)負反饋控制系統(tǒng),控溫儀表選用智能型程序溫度調節(jié)儀表控溫,電力調制器控制;負載采用小電壓大電流控制,從而大大提高了發(fā)熱元件的壽命,測溫元件采用K型熱偶。30段可編程控溫,PID參數自整定,操作界
2023-09-12 1/臺
設備特點:該款設備是由單端封口小型紅外滑軌爐、電機調速裝置、高真空機組、進出氣口及操作控制界面組成,內控熱電偶用于控制RTP滑軌爐內的溫度,伺服電機用于控制絲桿的轉動速度達到控制爐管(樣品)移除爐膛的速度,從而用于調節(jié)爐管(樣品)的降溫速度,與之相反可以得到較快的升溫速率;出氣口通過
2023-09-12 /臺
產品簡介:1.該設備爐管可360度旋轉,管內壁有石英擋片幫助粉料翻轉有助于燒結得更均勻;2.可左右大角度傾斜,方便出放料,傾斜角度在0~35?之間。3、廣泛應用于電池正負較材料,無強酸堿性粉體材料,顆粒狀物料。4、可在真空下或氣氛保護下進行燒制。型號BTF-1
2023-09-12 /臺
主要特點該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(tǒng)(PECVD),連續(xù)可控溫度以及Plasma強度等,配備真空系統(tǒng),可以低壓條件下實現工藝,PECVD系統(tǒng)能使整個實驗腔體都處于輝光產生區(qū),輝光相對均勻等效,很好的解決了傳統(tǒng)等離子工作不穩(wěn)定狀態(tài),該設備爐管可360?旋轉,有助于粉料的
2023-09-12 /臺
設備特點:1、保溫材料采用真空吸附成型的氧化鋁纖維無機材料,環(huán)保節(jié)能;2、采用模糊PID控制,控溫精度可達?1℃;3、爐體采用雙層風冷機構,爐子燒到zui高溫度時,殼體表面溫度低于60℃;4、采用多種保溫材料組合制成,使爐子體積小,能量消耗少(耗電量是同類產品耗電量的四分之一)。
2023-09-12 /臺
主要特點本款農業(yè)生產體系小分子提純(升華儀)主要用途是在真空條件下對農業(yè)生產體系混合物進行升華達到純化的目的(即蒸發(fā)后重結晶),主要處理的對象為具有升華性的農業(yè)生產體系材料,或具有流動相特性混合物如農業(yè)生產體系聲光產品(如農業(yè)生產體系發(fā)光顯示器用的農業(yè)生產體系光電材料)或納米材料。貝意克設備
2023-09-12 /套
特點及用途:前端預熱雙溫區(qū)滑軌PECVDBTF-1200C-II-SL-400C是借助于輝光放電等方法產生等離子體,輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態(tài)物質發(fā)生化學反應,從而實現薄膜材料生長的一種新的制備技
2023-09-12 /套
設備特點此款設備由9組管式爐組合而成,且相互單獨控制,可同時進行平行實驗,整機液晶屏集中管理,操作簡便,無紙記錄。設備的在zui大優(yōu)勢:功能強大體積小,很好的解決了實驗室空間緊張的問題,廣泛適用于各大高校研究院。技術參數額定功率22KW額定電壓38
2023-09-12 /臺
產品簡介:本設備主要針對實驗石墨烯生長和制備使用,同時該設備可以用于碳納米管的生長?芍苽涑龈哔|量的透明導電膜,用作手機觸摸屏,平板電腦,智能穿戴,傳感器等領域。PECVD高溫真空爐加熱腔體采用氧化鋁纖維制品,其較低的熱導率和比熱容,保證了爐膛的快速升溫和低蓄熱,特別適合于科研單位的材料
2023-09-12 /套