產品描述
設備特點：
1、廣泛用于真空或氣氛燒結、基片鍍膜等要求加熱溫度較高的實驗環(huán)境；
2、該設備技術成熟、質量可靠，溫場均勻，結構合理；
3、可選用液晶屏觸摸界面，詳細的界面操作提示，使得設備的操作異常簡單、方便；
4、設備的各項技術參數(shù)，溫度曲線更是一目了然，使得整個實驗的運行狀態(tài)盡在您的掌控之中；
5、根據(jù)管徑不同，法蘭分為卡箍和折頁兩種密封方式，安裝拆卸簡便快捷。
該設備廣泛應用在半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材料、新工藝領域
技術參數(shù)：
1、額定功率：4KW
2、額定電壓：AC 220V, 50/60Hz
3、較高溫度：1700℃（1 hour）
4、持續(xù)工作溫度：≤1600℃
5、推薦升溫速率：1400℃以下≤10℃/min
1400℃~1600℃≤5℃/min
6、爐管尺寸：剛玉管Φ60*750mm
7、加熱區(qū)長度：200mm
8、恒溫區(qū)長度：100mm
9、控溫方式：模糊PID控制和自整定調節(jié)，智能30段可編程控制，具有超溫和斷偶啟動緊急信號功能
10、加熱元件:硅鉬棒
11、標準配置 剛玉管1根，氧化鋁管堵4只，B型熱電偶1只，不銹鋼密封法蘭1套，硅膠密封圈2套，高溫手套1副，坩堝鉤1支
12、爐子尺寸：510*440*650mm
凈重：100KG
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其他供應
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單價：1 元
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- 安徽貝意克設備技術有限公司
- 經營模式：制造商+服務商
- 主營：管式爐,箱式爐,CVD系統(tǒng),PECVD系統(tǒng),升華儀
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