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MXG1200--80 真空管式爐
簡單介紹設備用途本設備是專為高等院校﹑科研院所的實驗室及工礦企業(yè)在可控多種氣氛及真空狀態(tài)下對金屬，非金屬及其它化合物進行真空燒結、氣氛保護燒結、真空鍍膜、氣氛還原燒結、CVD實驗、真空退火﹑熔化﹑物質成分測量分析而研制的專項使用理想設備。應用領域半導體、納米材料、碳纖維、石墨烯等新材
2017-04-12 8888/臺

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