四方臺(tái)氮化爐

氮化硅（Si3N4）結(jié)構(gòu)陶瓷作為一種不錯(cuò)的高溫工程材料,較能發(fā)揮優(yōu)勢(shì)的是其在高溫制造行業(yè)中的應(yīng)用。Si3N4未來(lái)的發(fā)展前途是:⑴充分利用和

PVD是英文PhysicalVaporDeposition,是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使

底裝料淬火爐 QL-1200 有效區(qū)1200×2200mm，溫度980℃，裝載量1000kg 氮?dú)獗Ｗo(hù)回火爐 HL-600 有效區(qū)600×6

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提供快速模具氮化爐，3小時(shí)完成氮化，氮化質(zhì)量高等，工藝操作簡(jiǎn)單。經(jīng)濟(jì)型：1.8萬(wàn)元/臺(tái)， 標(biāo)準(zhǔn)型：3.4萬(wàn)元/臺(tái)。適合中小規(guī)模鋁型材工廠。

本公司位于“長(zhǎng)三角”的主要地區(qū)浙江省長(zhǎng)興縣，太湖的南岸，東臨上海，南接杭州。 多年來(lái)，公司憑著過(guò)硬的質(zhì)量，產(chǎn)品在十幾個(gè)省建立良好的信譽(yù)網(wǎng)。本