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半導(dǎo)體集成電路主要區(qū)分為擴(kuò)散Diffusion、制版（照相）（黃光）Photo、蝕刻Etch和制薄Thinfilm. IMP離 子 植 入 五大工序，五個(gè)工序的製程特性與使用的製程原與機(jī)臺(tái)各相同。其中
