真空熱壓爐

一、設備用途
本產(chǎn)品主要供大專院校、科研單位在真空或保護氣氛條件下對無機材料（如功能陶瓷、透明陶瓷、碳化硅、氧化鋯、氧化鋅、二氧化鋁等）及金屬材料（如硬質(zhì)合金）等進行燒結處理。
二、主要技術參數(shù)：
1.額定功率：25kw
2.溫度：2000℃
3.工作區(qū)尺寸：ф90×120
4.極限真空度：6.67×10-3pa
5.溫度控制：熱電偶+紅外自動控制
三、結構說明
本產(chǎn)品由爐蓋、爐體、爐底、真空系統(tǒng)及電氣控制系統(tǒng)等組成，占地小，易于搬運。
爐蓋、爐體及爐底均采用雙層水冷結構，保持爐殼溫度不超過60℃。打開爐蓋裝料，爐體內(nèi)有用碳氈或金屬隔熱屏做成的保溫層，發(fā)熱元件采用石墨筒。爐體側(cè)部設計有觀察窗及熱電偶，以便進行溫度分段自動控制，即1700℃以下采用鎢錸熱電偶，1000℃-2000℃采用紅外傳感器。
真空系統(tǒng)采用二級泵，即k-150油擴散泵與2xz-8d直聯(lián)泵，真空機組上設有放氣閥及充氣閥。
電氣控制采用大電流變壓器、調(diào)壓器及溫度控制儀表組成溫度控制執(zhí)行回路。電路設有斷水、過流、超溫報警及保護功能。