產(chǎn)品描述
品名：鉍粒
純度：4N
規(guī)格：1-3mm
包裝：100g
用途：科研
適用設備：適用于北方華創(chuàng)、中科科儀、沈陽科儀、中電科、微電子所、南光機器廠、金盛微納、泰科諾、Kurt J.Lesker 愛發(fā)科、丹頓真空等各種單靶濺射系統(tǒng)，多靶濺射系統(tǒng)，離子濺射系統(tǒng)等磁控濺射設備。
應用領域：生產(chǎn)及科研方面應用，光學，微納加工，器件等行業(yè)，廣泛用于半導體芯片、太陽能光伏 、平面顯示、特種涂層等鍍膜產(chǎn)品。
靶材規(guī)格
材質(zhì)：鉍（Bi Target）。
純度：99.99%，99.999%，99.9999%。
晶粒度：45微米。
尺寸：Φ25,30,40,50.5,60,76.2,80,100,101.6mm，T:0.2-10mm等。
密度：9.80g/cm³。
表面粗糙度：Ra≤0.8um（濺射面），Ra≤6.4um（做金屬化）。
外觀：目視檢查無破損、劃傷、污跡、裂紋等在使用上有害的缺陷。
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