產(chǎn)品描述
CNM生產(chǎn)的高純合金濺射靶材：晶粒度小150-60um，相對密度高（99-99.9%），純度高（99.9-99.999%）。可以提供靶材的金屬化處理及綁定服務。
產(chǎn)品廣泛應用于半導體和電子行業(yè)的基礎材料，光學，航天，原子能工業(yè)，電子，光電子，太陽能電池，裝飾，合金添加劑等各類科學研究和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域）
CNM高純材料采用化學精煉法，電解精煉法，電子書熔煉，區(qū)間熔煉，萃取精煉法，控制晶粒的生長形態(tài)的偏析法提純工藝，濕法提純，化學提純。材料：純度高，性能穩(wěn)定，延展性好，耐腐蝕性能優(yōu)良，放射性元素含量低，強度高，具有良好的加工性能。
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