產(chǎn)品描述
產(chǎn)品簡介：此款設(shè)備配有Plasma實現(xiàn)等離子增強，滑軌式設(shè)計在操作時可將實驗需要的恒定高溫直接推到樣品處，使樣品能得到一個快速的升溫速度，同樣也可將高溫的管式爐直接推離樣品處，使樣品直接暴露在室溫環(huán)境下，得到快速的降溫速率。并可選配氣氛微調(diào)裝置，可準(zhǔn)確的控制反應(yīng)腔體內(nèi)部的氣體壓力，帶刻度的調(diào)節(jié)閥對于做低壓CVD非常簡單實用，工藝重復(fù)性好，對于石墨烯生長工藝非常合適，也同樣適用于要求快速升降溫的CVD實驗。
主要功能和特點：
1、 利用輝光放電產(chǎn)生等離子體電子激活氣相；
2、 提高了氣相反應(yīng)的沉積速率、成膜質(zhì)量；
3、 可通過調(diào)整射頻電源頻率來控制沉積速率；
4、 能廣泛用于：石墨烯、SiOx、SiNx、CNx、TiCxNy等薄膜的生長。
本公司可定制各種型號各種功能的爐
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