平板狀（片狀）氧化鋁研磨微粉TWA5

平板狀（片狀）氧化鋁研磨微粉、菱形氧化鋁研磨微粉

平板型氧化鋁研磨微粉產(chǎn)品介紹
一、企業(yè)概況：
無錫中晶材料科技有限公司是專業(yè)從事 “平板狀氧化鋁研磨拋光微粉”(TWA 系列產(chǎn) 品 ) 的生產(chǎn)、研發(fā)、銷售于一體的科技型企業(yè)，已通過ISO：9001-2000全部質量標準，具有全部先進水平的生產(chǎn)線和高等的員工隊伍, 擁有 Coulter Multisizer II型粒度分析儀和其它準確的質控儀器。該產(chǎn)品填補了國內(nèi)在高等磨料上的空白 , 改變了我國長期依賴進口的局面 , 現(xiàn)已穩(wěn)定地供應給美國、日本、韓國、馬來西亞、寶島地區(qū)以及國內(nèi)眾多企業(yè)。
二、產(chǎn)品介紹： 該研磨拋光微粉是以工業(yè)氧化鋁為主要原料 , 采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小 , 經(jīng)特殊處理和嚴格的分級而制成。硬度僅次于金剛石 , 是非常優(yōu)異的準確研磨拋光、研磨微粉。
1、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的性能 : 平板型氧化鋁研磨拋光微粉顆粒呈獨特的平板狀結構 , 硬度高達莫氏九級 , 磨削力強 , 不易產(chǎn)生劃痕 , 可得到**率、高精度的被加工表面 , 有特殊設計的粒度分布 , 質量和日本 FUJIMI公司相當。
2、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的特點
1）平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的非常大區(qū)別是：片狀，硬度高，粒度均勻。
2）特點為：
A、形狀為平板狀，即片狀，使磨擦力加大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可減少磨片機的數(shù)量、人工和磨削時間，如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍；
B、由于形狀為平板狀，故對于被磨對象（如半導體硅片等）來說不易劃傷，合格品率可提高10%至15%，如半導體硅片，其合格品率一般能達到99%以上；
C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高，故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少，如果磨同樣數(shù)量的產(chǎn)品，其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節(jié)約40%至50%；
D、與國外同類產(chǎn)品相比，質量達到或超過國外同類產(chǎn)品，品質已達到全部標準，但產(chǎn)品價格只有國外同類產(chǎn)品的60%--70%；
E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優(yōu)良性能，故加工的產(chǎn)品合格品率高，質量穩(wěn)定，生產(chǎn)成本只有原來的50%-60%。（具體數(shù)據(jù)可見用戶報告）
3、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途 :
1）電子行業(yè) : 單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導體的研拋。
2）玻璃行業(yè) : 硬質玻璃和顯象管玻殼的加工。
3）涂附行業(yè) : 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。
4）金屬和陶瓷加工業(yè)。
氧化鋁(AL2O3)性能指標：
   物理指標：
 平板狀氧化鋁研磨微粉、菱形氧化鋁研磨微粉、氧化鋁拋光液
化學名稱 外觀 密度 莫氏硬度 顯微硬度
α- AL2O3 白色 3.95-3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm

 化學指標：

化學成份 指標(%) 測度結果(%)
AL2O3 ＞99.0 99.36
SiO2 ＜0.2 0.027
Na2O ＜0.6 0.35
Fe2O3 ＜0.1 0.03

產(chǎn)品粒度：
粒度號 平均粒度(μm)
TWA50 44.5±2.5
TWA45 36.0±2.3
TWA40 31±2.0
TWA35 25.5±1.7
TWA30 21.5±1.5
TWA25 17.4±1.3
TWA20 14.2±1.0
TWA15 10.5±0.8
TWA12 8.2±0.6
TWA9 6.4±0.6
TWA5 4.7±0.5
TWA3 3.1±0.4

 

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聯(lián) 系 人：馮志強  (經(jīng)理)
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