光譜標(biāo)樣、鋁制品分析儀

 

         創(chuàng)想-德譜CX-9800（L）落地式全譜直讀光譜分析儀是我公司引進(jìn)歐洲技術(shù)生產(chǎn),是目前較先進(jìn)的全部公認(rèn)的第二代CCD光譜儀技術(shù), 廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、汽車制造、航空航天、兵器、金屬加工等領(lǐng)域的生產(chǎn)工藝控制，爐前化驗，中心實驗室成品檢驗。儀器體積小、穩(wěn)定性好、檢驗限低、分析速度快、運(yùn)行成本低、操作維護(hù)方便，是控制產(chǎn)品質(zhì)量的理想選擇。
 CX-9800光譜分析儀的優(yōu)勢
 1、世界先進(jìn)的第二代CCD全譜光譜制造技術(shù)（數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)）、通道不受限制 ；2、引進(jìn)歐洲技術(shù)、同全部光譜儀技術(shù)同步，國內(nèi)能生產(chǎn)真空CCD全譜技術(shù)光譜儀的制造商；3、基體范圍內(nèi)通道改變、增加不需費(fèi)用4、升級多基體方便，無須變動增加硬件 ；5、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性，同一樣品不同的時間段分析，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ；6、體積小、重量輕， 移動安裝方便 ；7、高集成度、高可靠性、高穩(wěn)定性 ；8、節(jié)電、節(jié)材、能耗只是普通光譜儀50%。
 主要特點(diǎn)：

• 1、可測定包括痕量碳（C），磷（P）,硫（S）元素,適用于多種金屬基體，如：鐵基，鋁基，銅基，鎳基，鉻基，鈦  基，鎂基，鋅基，錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范圍，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素；
• 2、分析速度快捷，20秒內(nèi)測完所有通道的元素成分。針對不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時間及標(biāo)線，使儀器用較短的時間達(dá)到較優(yōu)的分析效果；
• 3、光學(xué)系統(tǒng)采用非真空恒溫光室， 激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室，實現(xiàn)光路直通,清理了光路損耗，提高檢出限，測定結(jié)果準(zhǔn)確，重現(xiàn)性及長期穩(wěn)定性較佳；
• 4、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半；
• 5、自動光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動進(jìn)行譜線掃描，確保接收的正確性，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動識別特定譜線，與原存儲線進(jìn)行對比，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的像素位置進(jìn)行測定；
• 6、公開式的電較架設(shè)計，可以調(diào)整的樣品夾，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
• 7、工作曲線采用全部標(biāo)樣，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成，自動扣除干擾；
• 8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源，適應(yīng)各種不同材料 ；
• 9、固態(tài)吸附阱，防止油氣對光室的污染，提高長期運(yùn)行穩(wěn)定性；
• 10、銅火花臺底座，提高散熱性及堅固性能；
• 11、合理的氬氣氣路設(shè)計，使樣品激發(fā)時氬氣沖洗時間縮短，為用戶節(jié)省氬氣，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半；
• 12、采用鎢材料電較，電較使用壽命更長，并設(shè)計了電較自吹掃功能，清潔電較更加容易；
• 13、高性能DSP及ARM處理器，具有非常高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動實時監(jiān)測光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運(yùn)行狀況；
• 14、儀器與計算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好，外部計算機(jī)升級與儀器配置無關(guān)，使儀器具有更好的適用性；
• 15核心器件全部原裝進(jìn)口，保證了儀器優(yōu)越的品質(zhì)。

產(chǎn)品參數(shù)指標(biāo)： 

光學(xué)系統(tǒng)
光學(xué)結(jié)構(gòu)	帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
光室溫度	自動控制恒溫：35℃?0.5℃
波長范圍	160-800nm
光柵焦距	350 mm
光柵刻線	3600 l/mm
一級光譜線色散率	1.2 nm/mm
探測器	多塊高性能線陣CCD
平均分辨率	10pm/pixel
激發(fā)臺
氣   體	沖氬式
氬氣流量	激發(fā)時3-5L/min， 待機(jī)時:無須待機(jī)流量
電   較	鎢材噴射電較技術(shù)
吹   掃	點(diǎn)擊自吹掃功能
補(bǔ)   償	熱變形自補(bǔ)償設(shè)計
分析間隙	樣品臺分析間隙：4mm
激發(fā)光源
類   型	HEPS數(shù)字化固態(tài)光源
頻   率	100-1000Hz
放電電流	1-80A
特殊技術(shù)	放電參數(shù)優(yōu)化設(shè)計
預(yù)   燃	高能預(yù)燃技術(shù)
數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
處理器	高等ARM處理器，高速數(shù)據(jù)同步采集處理
接   口	基于DM9000A的以太數(shù)據(jù)傳輸
電源與環(huán)境要求
輸   入	220VAC 50Hz
功   率	分析時非常大700W，待機(jī)狀態(tài)40W
工作溫度	10-30℃（該溫度范圍內(nèi)溫度變化不大于5℃/h）
工作濕度	20-80%
尺寸與重量
主機(jī)尺寸	800*750*500 mm
重      量	120Kg