晶圓光刻膠去除等離子清洗機(jī)

PL-DW60真空等離子清洗機(jī)：等離子通常稱作物質(zhì)的第四種狀態(tài)，前三種狀態(tài)是固體、液體、氣體，它們是比較常見的，就存在于我們周圍。等離子在地球上只存在于某種特定環(huán)境，如閃電、極光。就好象把固體轉(zhuǎn)變成氣體需要能量一樣，產(chǎn)生離子體也需要能量。一定量的離子體是由帶電粒子和中性粒子（包括原子、離子和自由粒子）混合組成。離子體能夠?qū)щ姟?nbsp;

等離子技術(shù)的應(yīng)用 

通過對(duì)物體表面進(jìn)行等離子轟擊，可以達(dá)到對(duì)物體表面的蝕刻，活化，清洗等目的。可以顯著加強(qiáng)這些表面的粘性及焊接強(qiáng)度，等離子表面處理系統(tǒng)現(xiàn)正應(yīng)用于LCD，LED，IC，PCB，SMT，BGA，引線框架，平板顯示器的清洗和蝕刻。等離子清洗過的IC可顯著提高焊線強(qiáng)度，減少電路故障的可能性。殘余的感光阻劑、樹脂，溶液殘?jiān)�及其他有機(jī)污染物暴露于等離子體區(qū)，短時(shí)間內(nèi)就能清除。PCB制造商用等離子蝕刻系統(tǒng)進(jìn)行去污和蝕刻來帶走鉆孔中的絕緣物。對(duì)許多產(chǎn)品，不論它們是應(yīng)用于工業(yè)。電子、航空、健康等行業(yè)，可靠性都依靠于兩個(gè)表面之間的粘結(jié)強(qiáng)度。不管表面是金屬、陶瓷、聚合物、塑料或是其中的復(fù)合物，等離子體都有潛能改進(jìn)粘著力，提高終產(chǎn)品質(zhì)量。等離子體改變?nèi)魏伪砻娴哪芰κ前踩�的、環(huán)保的、經(jīng)濟(jì)的。它是許多行業(yè)面臨的挑戰(zhàn)問題的可行的解決方案。 

等離子處理的原理 

給一組電極通上射頻電源，電極之間形成高頻交變電場(chǎng)，區(qū)域內(nèi)氣體在交變電場(chǎng)的激蕩下，形成等離子體，活性等離子對(duì)物體表面進(jìn)行物理轟擊與化學(xué)反應(yīng)雙重作用，使被清洗物表面物質(zhì)變成粒子和氣態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過抽真空排出，而達(dá)到表面處理的目的。

在整個(gè)等離子處理過程中，影響等離子處理效果的要素包括過程溫度、射頻功率、氣體分配、真空度、電極設(shè)置、靜電保護(hù)等等  PL—DW60等離子清洗機(jī)

•                                不銹鋼艙體：350mm×350mm×400mm

•                                容量：60 升

•                                處理過程：分手動(dòng)與自動(dòng)控制

•                                功率：500W

•                                電源：AC380V

•                                射頻電源：主頻40KHz

•                                外形型號(hào)

 

立式

  寬度： 600mm（19”）

 高度： 2000mm

 深度： 800mm

臺(tái)式 寬度： 600mm（19”）

 高度： 800mm

 深度： 650mm

艙體：不銹鋼

艙門：鋁合金

 

艙體背面為5個(gè)通徑40和1個(gè)通徑為16的法蘭連接器。用于接入處理氣體和真空泵等輔助設(shè)施。