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供應硅片清洗劑

價格

面議

  • 單價：電議
  • 最小起訂量： 不限
  • 所在地：北京
  • 供貨總量：
  • 發(fā)布時間：2010-11-01

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產品描述

產品特點


本品能徹底清除硅片經(jīng)加工后，表面殘留下的切削液、研磨粉、拋光粉、硅粉、微粒、灰塵、金屬離子等雜質，不會破壞硅片表面光澤。


本品對被清洗的硅片及清洗設備不會產生腐蝕。


本品不會產生影響操作持續(xù)進行的泡沫，即使加熱也可照常進行。


本品可用自來水稀釋使用，經(jīng)濟方便。


應用領域


適用于電子行業(yè)、微電子工業(yè)、航空航天業(yè)等行業(yè)中的非金屬硅片清洗。


理化指標






項　目




技　術　指　標






外　觀




透明液體






密　度




1.05±0.05






PH值1%




2.5±0.5






使用方法


可采用噴淋清洗、超聲波清洗、浸泡清洗、刷洗等方法。


將1%濃度的硅片清洗劑B和2%濃度的硅片清洗劑A，分別加入到液槽中，進行清洗。


清洗液的總堿度每降低0.1%，就要補充0.25%硅片清洗劑A和0.125%硅片清洗劑B。


當清晰液的濁度大于3000NTU時，必須更換配槽液，重新加入清水，加入清洗劑。


一般噴淋使用溫度：60—80℃；超聲波清洗時使用溫度：70-80℃。


硅片被清洗后，必須進行漂洗。


注意事項


本品呈酸性，使用時，請戴膠皮手套、護目鏡操作。


濺入皮膚上，請立即用清水沖洗。切勿濺入眼內。若不慎濺入眼中，請用大量清水沖洗，嚴重者就醫(yī)治療。


長期存放如出現(xiàn)沉淀不影響使用效果。


包裝及儲存


包裝：凈含量25kg　200　kg塑料桶包裝。


儲存：緊蓋包裝封口，置于陰涼處儲存;防止泄漏，并避免兒童接觸

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