鄭州諾泰科技有限公司

已認(rèn)證 天眼查

http://www.zzprotech.com
主營(yíng)：箱式爐,真空爐,馬弗爐,管式爐,高溫爐,氣氛爐

  • 1
  • 2

供應(yīng)產(chǎn)品分類

精品推薦

+更多

聯(lián)系我們

+詳細(xì)

留言咨詢
鄭州諾泰科技有限公司 >> 企業(yè)新聞

我國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備之化學(xué)氣相沉積CVD設(shè)備

發(fā)布日期：2021-03-08 來(lái)源：http://www.china-protech.com/a/xingyedongtai/20191030/475.html 作者：鄭州諾泰科技

化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)是用來(lái)制備高純、高性能固體薄膜的主要技術(shù)。在典型的CVD 工藝過(guò)程中，把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中，在外部能量作用下發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并在襯底表面形成需要的薄膜。通常，工藝過(guò)程中還會(huì)產(chǎn)生很多副產(chǎn)物，這些副產(chǎn)物會(huì)被氣流帶走離開(kāi)腔室。由于CVD 技術(shù)具有成膜范圍廣、重現(xiàn)性好等優(yōu)點(diǎn)，被廣泛用于多種不同形態(tài)的成膜。

根據(jù)化學(xué)氣相沉積的工藝條件不同，可以細(xì)分為等離子體化學(xué)氣相沉積（PECVD）、常壓/低壓化學(xué)氣相沉積（APCVD/LPCVD）、原子層化學(xué)氣相沉積（ALCVD）、氣相外延（VPE）等技術(shù)。根據(jù)數(shù)據(jù)，CVD 設(shè)備占整個(gè)設(shè)備投入資金比例大概為15%，我們推算2018-2020年國(guó)內(nèi)晶圓廠建設(shè)對(duì)應(yīng)的CVD 設(shè)備市場(chǎng)空間分別為157、162、172億元。而其中PECVD、AP/LPCVD、ALD 和VPE 分別占比約為35%、35%、10%和15%左右。

http://www.zzprotech.com/a/xingyedongtai/20191030/475.html

產(chǎn)品供應(yīng)