氧化銦錫光電應(yīng)用納米級分散機

氧化銦錫光電應(yīng)用納米級分散機

ITO導(dǎo)電漿料納米均質(zhì)機，ito納米均質(zhì)機,是在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液）

ito ITO 是一種N型氧化物半導(dǎo)體-氧化銦錫,ITO薄膜即銦錫氧化物半導(dǎo)體透明導(dǎo)電膜，通常有兩個性能指標(biāo):電阻率和透光率作為納米銦錫金屬氧化物，具有很好的導(dǎo)電性和透明性，可以切斷對人體有害的電子輻射、紫外線及遠紅外線。因此，銦錫氧化物通常噴涂在玻璃、塑料及電子顯示屏上，用作透明導(dǎo)電薄膜，同時減少對人體有害的電子輻射及紫外、紅外。

在氧化物導(dǎo)電膜中，以摻Sn的In2O3(ITO)膜的透過率zui高和導(dǎo)電性能*，而且容易在酸液中蝕刻出細微的圖形，其中透光率達90%以上。ITO中其透光率和阻值分別由In2O3與SnO2之比例來控制，通常SnO2:In2O3=1:9。因為氧化錫之厚度超過200-時，通常透明度已不夠好---雖然導(dǎo)電性能很好

對導(dǎo)電漿料的要求，第yi是分散均勻性，如果漿料分散不均，有嚴重的團聚現(xiàn)象，電池的電化學(xué)性能受到影響，如若導(dǎo)電劑分布不均勻，充放電過程中，各處電導(dǎo)率不同會發(fā)生不同的電化學(xué)反應(yīng)，可能產(chǎn)生較復(fù)雜的  SEI膜，可逆容量減小，并伴有局部的過充過放現(xiàn)象或有可能會有鋰金屬析出，形成安全隱患;粘結(jié)劑分布不均，顆粒之間、顆粒與集流體之間粘結(jié)力出現(xiàn)過大過小的情況，過小部位內(nèi)阻大，甚至?xí)�掉料，zui終影響整個電池容量的發(fā)揮。第二，漿料需要具有良好的沉降穩(wěn)定性和流變特性，滿足涂布工藝的要求，并得到厚度均一的涂層，要求電池眾心的厚度要和邊緣處的厚度盡量保持一致，這是導(dǎo)電漿料涂布工藝的難點。

研磨分散機是由膠體磨分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

一級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

以下為型號表供參考：

氧化銦錫光電應(yīng)用納米級分散機