新品發(fā)布—日立分析儀器推出OE750直讀光譜儀

由于復(fù)雜的供應(yīng)鏈，以及作為基礎(chǔ)材料使用的廢舊金屬數(shù)量的增加，鑄造廠和金屬制造商在控制熔體中的雜質(zhì)和痕量元素時(shí)，面臨著更多的壓力。新型OE750型直讀光譜儀具有從未有過的性能水平。它涵蓋金屬中所有元素的光譜，并實(shí)現(xiàn)對某些元素的zui低檢出限。因此，此款分析儀具備價(jià)格高昂的同類儀器所能提供的功能水平，可為眾多鑄造廠和金屬制造商提供優(yōu)質(zhì)分析。

OE750實(shí)現(xiàn)高分辨率和寬動態(tài)范圍要?dú)w功于采用了先進(jìn)CMOS探測器技術(shù)的革命性新光學(xué)理念。這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長范圍；這意味著該分析儀能測量金屬中ppm級別的所有元素。這對于滿足當(dāng)今嚴(yán)格的金屬規(guī)格分析至關(guān)重要，該分析儀可以滿足新的ASTM E415標(biāo)準(zhǔn)中關(guān)于碳鋼和低合金鋼的試驗(yàn)方法的要求。

OE750是鋁鑄件的理想光譜儀，因?yàn)樗�可以測定亞共晶和過共晶鋁硅合金中含量較低的磷。它可以分析銻、鉍、鍶和鈉，以及雜質(zhì)和痕量元素，從而確保這些元素能夠被控制在鋁熔體中，以優(yōu)化結(jié)構(gòu)改造。創(chuàng)新性光學(xué)設(shè)計(jì)能實(shí)現(xiàn)更短的啟動時(shí)間，因?yàn)楣鈱W(xué)系統(tǒng)的體積相對較小。這有助于那些需要在多點(diǎn)測量驗(yàn)證熔體質(zhì)量的工廠實(shí)現(xiàn)高批量生產(chǎn)。

除了新的光學(xué)設(shè)計(jì)之外，OE750還有其他支持大批量金屬分析的技術(shù)特性。它有一個(gè)新的密封火花臺，具有優(yōu)化層流設(shè)計(jì)，可降低氬氣消耗，降低污染的可能性，并大大降低維護(hù)要求。帶有低壓氬氣吹掃的獨(dú)特中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%，并避免油氣污染，從而增加可靠性和儀器的正常運(yùn)行時(shí)間。這使得OE750具有高可靠性和低運(yùn)行成本。

除創(chuàng)新性硬件技術(shù)外，新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如，它包括日立牌號數(shù)據(jù)庫，該數(shù)據(jù)庫包含來自69個(gè)國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標(biāo)準(zhǔn)，減少了人工查閱牌號目錄的時(shí)間和潛在錯(cuò)誤�？蛇x的爐料校正軟件會自動計(jì)算添加至熔體中的正確材料量，使其符合規(guī)范。