產(chǎn)品概述:
1200度立式管式氣氛爐的獨特設(shè)計能夠?qū)崿F(xiàn)在真空或氣氛保護(hù)條件下對樣品快速升降溫,四面加熱,溫場更均勻,立式結(jié)構(gòu)使得氣體排放更加順暢,爐體垂直安裝在可移動支架上有利于爐管取放溫度的均勻性,可以預(yù)抽真空并能通氫氣、氬氣、氮氣、氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體,該爐具有溫場均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點,特別適合薄膜生長、電較測試、氧化物晶體生長、快速退火等實驗需要!
適用范圍:
1200度立式管式氣氛爐主要應(yīng)用于院校實驗室、工礦企業(yè)實驗室,應(yīng)用于高、中、低溫CVD工藝,如碳納米管的研制,晶體硅基板鍍膜,金屬材料擴(kuò)散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。
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