Shanghai HONC Instrument Technology Co., Ltd
主營(yíng):硬度計(jì),金相切割機(jī),輪廓儀,圓度儀,自準(zhǔn)直儀,粗糙度儀,金相磨拋機(jī),金相鑲嵌機(jī)
HCUNIPOL-2000Z型 雙盤臺(tái)式全自動(dòng)金相試樣磨拋機(jī)(無級(jí)變速)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介 Product ioduction
HCUNIPOL-2000Z型 雙盤臺(tái)式全自動(dòng)金相試樣磨拋機(jī)(無級(jí)變速)是弘測(cè)公司較新開發(fā)的新型全自動(dòng)金相試樣磨拋機(jī),是通過多方面市場(chǎng)調(diào)研和廣泛聽取用戶的要求、采用全部先進(jìn)工藝制造而成,是這款非常適合在試樣制備量適中的小型試驗(yàn)室使用的經(jīng)濟(jì)型產(chǎn)品。
本機(jī)為液晶面板顯示,研磨拋光時(shí)間采用倒計(jì)時(shí)數(shù)字顯示,本機(jī)具有加工精度高,性能穩(wěn)定可靠,操作容易,加工范圍寬,工作時(shí),磨盤在調(diào)速電機(jī)的驅(qū)動(dòng)下旋轉(zhuǎn),采用智能程序化控制實(shí)現(xiàn)自動(dòng)加壓、自動(dòng)識(shí)別粗細(xì)磨;并根據(jù)一設(shè)定的高度,按理想的加壓保壓和分段卸壓方式將夾持盤壓在轉(zhuǎn)動(dòng)的磨盤上,從而能快速去除試樣表面的磨痕和清理變形層拋光時(shí)間到達(dá)后,磨盤停止轉(zhuǎn)動(dòng),夾持盤自動(dòng)提升,從而實(shí)現(xiàn)無人監(jiān)控操作,工作中粗磨和精磨兩個(gè)階段系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)。工作過程實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化特點(diǎn),數(shù)字顯示無較變速,是一種理想的金相試驗(yàn)儀器。
本機(jī)可根據(jù)不同金屬材料的需要現(xiàn)場(chǎng)設(shè)置和存儲(chǔ)工作參數(shù)(速度、壓力和時(shí)間),也可從存儲(chǔ)器中調(diào)用已事先優(yōu)化的工作參數(shù),具有很高的智能化程度。(對(duì)于一般研磨拋光處理,本機(jī)采用一道砂紙、一道絲絨足可滿足分析要求)
本機(jī)可用于單個(gè)和多個(gè)試樣制備。作用在各試樣上的力均可分別控制,因此每次可進(jìn)行1-6個(gè)試樣的制備,而不需要使用空試樣或“假”試樣。具有操作簡(jiǎn)單快捷,試樣制備質(zhì)量高,是各企業(yè),科研院所實(shí)現(xiàn)無人制備,節(jié)約制備耗材并提高試樣制備效率的理想選擇。
工作原理 Wong principle
金相磨拋機(jī)有焊接工作臺(tái)、工作臺(tái)面、磨拋盤、金相砂紙、金相拋光布、預(yù)磨罩及開關(guān)等基本部件組成。工作臺(tái)面上安裝有2個(gè)磨拋盤,使用方便。電動(dòng)機(jī)置于工作臺(tái)面下部,通過固定片與臺(tái)面連接。固定磨拋盤用的錐套通過螺釘與電動(dòng)機(jī)軸相連。金相砂紙或金相拋光布通過套圈、背膠或者磁性緊固在預(yù)磨盤上。電動(dòng)機(jī)的起?煞謩e由安裝在面板上的開關(guān)控制,電動(dòng)機(jī)啟動(dòng)后,便可用手對(duì)試樣施加壓力在轉(zhuǎn)動(dòng)的預(yù)磨盤上進(jìn)行研磨。在研磨過程中加入的研磨膏可提高金相研磨的效果和效率。預(yù)磨罩及蓋可防止灰塵及其其他雜物在機(jī)器不使用時(shí)落在金相砂紙或金相拋光布上而影響研磨效果。
性能特點(diǎn) Performance characteristics
1、具備自動(dòng)/手動(dòng)雙重操作方式;
2、塑鋼機(jī)身(可選不銹鋼機(jī)身);
3、雙盤單控,無級(jí)變速,轉(zhuǎn)速0-1000轉(zhuǎn)自由調(diào)節(jié);
4、雙通道單獨(dú)冷卻系統(tǒng);
5、可配備自動(dòng)送料系統(tǒng)(選配);
6、獨(dú)有的磁性吸盤設(shè)計(jì)(砂紙、拋光布以及研磨盤均為磁性,無需要用膠類等粘合;選配);
7、轉(zhuǎn)速穩(wěn)定,不抖動(dòng);
8、顯示方式:液晶屏幕數(shù)字顯示;
9、更換磨盤和拋盤即可實(shí)現(xiàn)預(yù)磨和拋光;
10、一次可同時(shí)磨拋6個(gè)工件,非常大直徑30mm(可定制);
11、單點(diǎn)氣動(dòng)加載,無需所磨拋試樣均在同一平面;
12、巖相磨拋:無論巖石、礦物、陶瓷、玻璃及其他硅酸鹽材料使用本機(jī)磨拋都能做出高質(zhì)量的標(biāo)本。
13、金相磨拋:對(duì)有色金屬和黑色金屬的試樣粗磨、細(xì)磨、干磨、濕磨、拋光都較為適用。
14、轉(zhuǎn)速穩(wěn)定,研磨/拋光盤不抖動(dòng);
15、一機(jī)多用。一機(jī)實(shí)現(xiàn)金相試樣的粗磨,精磨,粗拋和精拋的全過程,顯著節(jié)約設(shè)備成本,是企業(yè)和科研院校理想的制樣設(shè)備。
16、自動(dòng)研磨拋光,無需手動(dòng);
17、自動(dòng)磨拋模式,速度更快,效率更高;
18、時(shí)間、壓力自由設(shè)定;
19、超靜音,安全穩(wěn)定;
20、專項(xiàng)使用變頻調(diào)速控制系統(tǒng)。具有三級(jí)定速和無較調(diào)速兩種功能。三級(jí)調(diào)速:用戶可自定義三個(gè)常用速度,分別用來預(yù)磨,研磨和拋光。無機(jī)調(diào)速:磨盤轉(zhuǎn)速?gòu)?0轉(zhuǎn)/分到1000轉(zhuǎn)每分,八段速編程,可以自動(dòng)停機(jī),方便高等用戶自動(dòng)實(shí)現(xiàn)金相試樣制備。
21、美觀的玻璃鋼外殼,堅(jiān)固耐用,永不生銹。
技術(shù)指標(biāo) Technical indicators
序號(hào) |
類別 |
技術(shù)指標(biāo) |
1 |
機(jī)體形式 |
臺(tái)式雙盤、塑鋼機(jī)身(可選配不銹鋼機(jī)身) |
2 |
磨盤控制 |
雙盤單控 |
3 |
磨拋方式 |
自動(dòng)/手動(dòng) |
4 |
顯示方式 |
液晶屏顯 |
5 |
預(yù)磨盤直徑 |
Φ200mm(可選配230mm、250mm、300mm) |
6 | 拋光盤直徑 | Φ200mm(可選配230mm、250mm、300mm) |
7 |
磨盤轉(zhuǎn)速 |
0-1000轉(zhuǎn)/分(無級(jí)變速)、自由設(shè)定 |
8 | 加載器轉(zhuǎn)速 | 50-200轉(zhuǎn)/分 |
9 | 試樣盤高度 | 任意設(shè)定(0-30mm) |
10 | 制樣壓力 | 5-60N;自由設(shè)定 |
11 | 制樣時(shí)間 | 數(shù)字顯示(1-99min59s) |
12 | 壓力加/卸載 | 自動(dòng) |
13 | 精細(xì)磨拋?zhàn)R別 | 手動(dòng) |
14 | 冷卻系統(tǒng) | 單通道水冷 |
15 | 機(jī)身材質(zhì) | 玻璃鋼,永不生銹 |
16 | 制樣數(shù)量 |
1-6個(gè) |
17 | 夾持試樣直徑 | Φ8-30mm(較多可同時(shí)夾持6個(gè)) |
18 |
主機(jī)功率 |
550W*2 |
19 |
外形尺寸 |
710mm*760mm*330mm |
20 |
電源 |
220V/50HZ |
21 |
重量 |
100KG |
標(biāo)準(zhǔn)配置 Standard configuration
1、主機(jī):一臺(tái)
2、研磨盤:一只
3、拋光盤:一只
4、專項(xiàng)使用金相砂紙:兩張
5、專項(xiàng)使用金相拋光絨布:兩張
6、電源線:一根
7、進(jìn)水管:一根
8、出水管:一根
9、試樣夾持盤:一套
10、裝樣臺(tái):一套
11、卡環(huán):一套
12、隨機(jī)文件:一套
選配附件 Optional accessories
序號(hào) | 名稱 | 規(guī)格 |
1 | 磁性升級(jí)盤 | Φ200-250mm |
2 | 磁性金相砂紙 | 120#-2000# |
3 | 磁性拋光布 | 絲絨、平絨、呢絨、帆布、羊毛氈、尼龍、植絨、洋絨、絲綢、精拋絨 |
4 | 試樣夾持盤 | 規(guī)格可選 |
5 | 金相砂紙 | 120#-4000# |
6 | 金相耐水砂紙 | 120#-2000# |
7 | 帶膠金相砂紙 | 120#-4000# |
8 | 帶膠金相耐水砂紙 | 120#-2000# |
9 | 金相拋光布 | 絲絨、平絨、呢絨、帆布、羊毛氈、尼龍、植絨、洋絨、絲綢、精拋絨 |
10 | 帶膠金相拋光布 | 絲絨、平絨、呢絨、帆布、羊毛氈、尼龍、植絨、洋絨、絲綢、精拋絨 |
11 | 金相研磨膏 | 氧化鋁、碳化硅、金剛石 |
12 | 金相拋光粉 | 氧化鋁、碳化硅、氧化鉻 |
13 | 金剛石拋光噴霧劑 | W0.5-W40;W0.1-W0.25 |
14 | 金剛石拋光懸浮液 |
單晶:W0.5-W40; 單晶:W0.1-W0.25; 多晶:0.5UM、1UM、、3UM、6UM、9UM; |
15 | 金剛石拋光潤(rùn)滑冷卻液 |
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